Samsung Electronics chce wykorzystywać litografię w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) w swoim procesie produkcyjnym.

Asml - Urządzenia do EUV

Firma ma zamiar konkurować z takimi gigantami jak TSMC. Dlatego też koreański koncern kupi urządzenia NXE3400 holenderskiej ASML. Ich instalacja w fabryce Samsunga ma zakończyć się w trzecim kwartale bieżącego roku, a do końca roku z taśm produkcyjnych mają zjechać pierwsze układy wykonane w technologii 7 nanometrów.

Urządzenia do EUV

Obecnie wykorzystywane technologie wymagają wielokrotnej obróbki pojedynczego plastra krzemowego. Dopiero to pozwala na produkcję układów w technologiach mniejszych niż 30 nm. Jest to jednak metoda kosztowna, czasochłonna i nie pozwala na produkowanie odpowiedniej jakości układów 7-nanometrowych. Dopiero dzięki EUV, która wykorzystuje falę o długości 13,5 nanometra możliwe jest tworzenie w jednym przebiegu wzorów pozwalających na produkcję chipów w technologiach mniejszych niż 10 nm.

Polecane:

Chile - Trzęsienie ziemi o magnitudzie 6.0, 47 km od San Antonio
Namibia - Powstał największy na świecie teleskop, waży 600 ton, zwierciadło ma średnicę 28 metrów
USA - Rzeki atmosferyczne przyczyną opadów na zachodnim wybrzeżu kraju, są one tunelami aerodynamicz...
Zbliża się kometa Enckego, której cykl obiegu wynosi 3.3 roku
Izrael sprzedawał Chinom tajemnice uzbrojenia Amerykanów, Chiny mogły to sprzedać Iranowi
Kanada - Przez 6 miesięcy rodzina mieszkała ze zwłokami mężczyzny w sypialni, wierzyli w zmartwychws...
USA - W rezultacie załamania pogody w Kalifornii spadł grad, co jest wyjątkowo rzadkim zjawiskiem
Wyoming, USA - W górach Bighorn pojawiło się pęknięcie długości siedmiu boisk do piłki nożnej
Neapol, Włochy - Superwulkan Campi Flegrei od 70 lat jest niespokojny, podnosi się powierzchnia ziem...