Samsung Electronics chce wykorzystywać litografię w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) w swoim procesie produkcyjnym.

Asml - Urządzenia do EUV

Firma ma zamiar konkurować z takimi gigantami jak TSMC. Dlatego też koreański koncern kupi urządzenia NXE3400 holenderskiej ASML. Ich instalacja w fabryce Samsunga ma zakończyć się w trzecim kwartale bieżącego roku, a do końca roku z taśm produkcyjnych mają zjechać pierwsze układy wykonane w technologii 7 nanometrów.

Urządzenia do EUV

Obecnie wykorzystywane technologie wymagają wielokrotnej obróbki pojedynczego plastra krzemowego. Dopiero to pozwala na produkcję układów w technologiach mniejszych niż 30 nm. Jest to jednak metoda kosztowna, czasochłonna i nie pozwala na produkowanie odpowiedniej jakości układów 7-nanometrowych. Dopiero dzięki EUV, która wykorzystuje falę o długości 13,5 nanometra możliwe jest tworzenie w jednym przebiegu wzorów pozwalających na produkcję chipów w technologiach mniejszych niż 10 nm.

Polecane: