Samsung Electronics chce wykorzystywać litografię w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) w swoim procesie produkcyjnym.

Asml - Urządzenia do EUV

Firma ma zamiar konkurować z takimi gigantami jak TSMC. Dlatego też koreański koncern kupi urządzenia NXE3400 holenderskiej ASML. Ich instalacja w fabryce Samsunga ma zakończyć się w trzecim kwartale bieżącego roku, a do końca roku z taśm produkcyjnych mają zjechać pierwsze układy wykonane w technologii 7 nanometrów.

Urządzenia do EUV

Obecnie wykorzystywane technologie wymagają wielokrotnej obróbki pojedynczego plastra krzemowego. Dopiero to pozwala na produkcję układów w technologiach mniejszych niż 30 nm. Jest to jednak metoda kosztowna, czasochłonna i nie pozwala na produkowanie odpowiedniej jakości układów 7-nanometrowych. Dopiero dzięki EUV, która wykorzystuje falę o długości 13,5 nanometra możliwe jest tworzenie w jednym przebiegu wzorów pozwalających na produkcję chipów w technologiach mniejszych niż 10 nm.

Polecane:

W piątek sonda MESSENGER weszła na orbitę Merkurego
Yellowstone, USA - Katastrofa ekologiczna w pobliżu słynnego parku narodowego
Louisville, USA - Tornado wyrywało drzewa z korzeniami, porywało dachy domów i samochody
Chiny - Silne trzęsienie ziemi w rejonie Xinjiang, magnituda 6.3
Australia - Wielka Rafa Koralowa za 10 lat może mieć tylko 5 proc. swojej pierwotnej powierzchni
Laboratoria Disneya zaprezentowały technologię umożliwiającą poczucie struktury wyświetlanego obrazu...
USA - Kalifornijska susza i rekordy temperatur zmniejszają pokrywę śnieżną w górach Sierra Nevada, j...
USA - Mężczyzna zaatakował maczetą funkcjonariuszy Agencji Bezpieczeństwa Transportu na lotnisku w N...
Atlantyk - Sztorm tropikalny Gaston przekształcił się w huragan o prędkości wiatru dochodzącej do 14...